財団法人神奈川科学技術アカデミー

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GRENE事業 先進環境材料・デバイス創製スクール

ご案内

 講義と実習で学ぶ パターン磁性めっき入門  微細加工のための フォトリソグラフィー入門
 昔ながらの手法にノウハウをプラスし、ナノテクを実現する技術、「めっき」。電子機器の微細配線やMEMSの加工、バイオの分野にまで応用できる幅広さと簡便さを併せ持つのが魅力です。本講座では、ナノからマイクロ領域の微細な加工に活かせるめっき技術の基本と実際の加工事例、精密な評価観察技術を学びます。実習で行うのは、ハードディスクの磁気ヘッドなどに用いる「NiFeめっき」。高密度化の進む情報通信分野を支える重要な技術のひとつです。
  • ① めっきの基礎/磁気特性の基礎と評価法
  • ② めっき膜の作製
  • ③ めっき膜の評価

に関する基礎知識を習得します。

 写真の現像技術を応用し、半導体分野を支える「電子線描画」・「フォトリソグラフィー」の基礎を学びます、マイクロ-ナノスケールの微細で複雑な立体形状の加工を高精度に行うことができます。  
  • ① 電子線描画装置、UV露光装置の原理と使い方
  • ② 描画の設計と現像によるパターン作製
  • ③ パターンの形状評価

に関する基礎知識を、実習を中心に習得します。

日程

平成25年日(水)~日(金)  計3日間
お申し込み受付は終了いたしました。

日程

平成25年12日(火)、13日(水)  計2日間
お申し込み受付は終了いたしました。

受講料

無料 (実費を頂く場合があります)

受講料

無料 (実費を頂く場合があります)

定員

名程度

定員

名程度

★ 先着順にて承りますが、募集人員を越えての応募があった場合は抽選とさせて頂きます。
2コース共通のご案内

会場

早稲田大学 研究開発センター ナノテクノロジーリサーチセンター
(新宿区早稲田鶴巻町513)
☆最寄り駅 東京メトロ 東西線 早稲田

講師陣

早稲田大学 ナノテクノロジー研究所 准教授 齋藤美紀子 准教授 水野 潤 ほか

対象者

このような方にご受講をお薦めいたします
★これからマイクロ/ナノスケールのめっきプロセス技術に取り組みたい
★自社の技術を、微細加工分野に活かしたい。またその可能性を探りたい
★材料メーカー・計測機器メーカー・半導体マスクメーカー・電子部品メーカー等に所属しているが、これまでパターンめっきのプロセスを見たことがない・・・など
当該分野に関する専門的な知識がない方に特にお薦めしたい内容です。
実習コースは、ご自身で手を動かしたいという積極的な方のご受講を歓迎します。
実習編は、加工応用編と併せて受講してください。
    加工応用編のみの受講もできます。
    本講座「マイクロ化学チップ編」、「加工技術基礎編」の受講者、川崎市・神奈川県地域の企業の方を優先的に承ります。

カリキュラムと日程

加工コース1 パターンめっき入門  早稲田大学 ナノテクノロジー研究所 准教授 齋藤美紀子、竹内輝明 ほか
2月6日 (水) 応用編 10:00~10:30  オリエンテーション 実習の説明
 本講座の概要と実習の内容、実験を行う際の注意事項などを説明します。続いて、実習で用いる装置の機能や使い方、めっき液の準備の仕方を理解します。早稲田大学 ナノテクノロジー研究所の活動内容もご紹介します。
10:30~12:00  めっきで作る、微細な形  めっき技術の基礎
 ふるくて新しいめっき技術。加工条件を制御すれば、複雑で微細な形状の部品も精密に作ることができます。”ナノテク”を実現するめっき技術の概要を解説します。
13:00~13:30  磁性体の原理とめっき 磁性原理概論 
 電子部品をはじめ、小型の磁気センサーや磁気モータなどの磁性層もめっきで作ることができます。磁性の基礎と原理を理解し、めっき膜への応用について学びます。
2月6日 (水)

実習編 13:30~17:00  実習①  めっき実習
 講義内容に基づき、めっき液の準備(建浴)の後、電解NiおよびNiFeめっきの膜を実際に作製します。その後、組成分析や膜厚の評価を行います。
2月7日 (木) 10:00~17:00  実習②  めっき膜の形態観察、物性評価
 前日に引き続き、作製しためっき膜の形態を電子顕微鏡で観察した後、膜の物性評価を行い、めっき膜の良し悪しを確認します。
2月8日 (金) 10:00~12:00  実習③  データのまとめ、補充実験      13:00~17:00  ディスカッション
 実験結果のデータをまとめ、考察の後、必要に応じて補充実験を行います。最後に受講者、講師全員でディスカッションを行います。めっき膜の不具合などを確認し、問題点を探り、今回の実習の内容をふりかえります。

加工コース2 フォトリソグラフィー  早稲田大学 ナノテクノロジー研究所 准教授 水野潤、由比藤勇 ほか
2月12日 (火) 応用編 08:45~09:00  オリエンテーション 実習の説明
09:00~09:30  フォトリソグラフィーの原理と使い方
09:30~11:30  電子線描画装置の原理と使い方 
2月12日 (火)

実習編 12:30~17:00  実習①  電子線描画設計とサンプル作製準備
  微細な形状のパターンを設計し、電子線描画装置を使って描きます。写真の「撮影」に似たプロセスです。形状や複雑さにより、どのような順序、方法で描画すると効率的に作製できるかなども検討します。
2月13日 (水) 09:00~11:30  実習②  電子線描画サンプルの現像、観察・フォトリソグラフィー実習
 前日に作製した描画パターンや形状などを観察した上で、フォトリソグラフィーを使った「現像」プロセスに移ります。
12:30~15:00  実習③  データのまとめ、補充実験      15:00~16:30  ディスカッション
  実験結果のデータをまとめ、考察の後、必要に応じて補充実験を行います。最後に受講者、講師全員でディスカッションを行います。パターンの不具合などを確認し、問題点を探り、今回の実習の内容をふりかえります。

★講義中の録音・描画・写真撮影はお断りいたします。

お申し込み

大変ご好評につき、お申し込み受け付けは終了いたしました。
ありがとうございました。

主催

早稲田大学

協力

(財)神奈川科学技術アカデミー

 

問い合わせ先

教育情報センター  科学技術理解増進グループ
担当:半田・須藤
〒213-0012 川崎市高津区坂戸3-2-1 KSP東棟
TEL : 044-819-2032/FAX : 044-819-2097
E-MAIL : se@newkast.or.jp

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