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GRENE事業 先進環境材料・デバイス創製スクール

ご案内

 微細加工のための フォトリソグラフィー入門
 写真の現像技術を応用し、半導体分野を支える「フォトリソグラフィー」の基礎を学びま す、マイクロ-ナノスケールの微細で複雑な立体形状の加工を高精度に行うことがで きます。  
  • ① UV露光装置の原理と使い方
  • ② 電子線描画装置の原理と使い方・パターン作製
  • ③ パターンの形状評価

に関する基礎知識をもとに、電子線描画に関する実習を中心に習得します。

日程

平成26年12日(水)、13日(木)、14日(金)  計3日間

受講料

50,000円

定員

名程度(先着順で承ります)
お申し込み受付は終了いたしました。

会場

早稲田大学 研究開発センター ナノテクノロジーリサーチセンター
(新宿区早稲田鶴巻町513)
☆最寄り駅 東京メトロ 東西線 早稲田

講師陣

早稲田大学 ナノテクノロジー研究所 准教授 由比籐 勇 准教授 水野 潤 ほか

対象者

このような方にご受講をお薦めいたします
★自社の技術を、微細加工分野に活かしたい。またその可能性を探りたい
★当該分野に関する専門的な知識がない方に特にお薦めしたい内容です。
★実習コースは、ご自身で手を動かしたいという積極的な方のご受講を歓迎します。

★〈実習編〉は、予備講義と実習で構成しています。どちらか一方のみの受講はご遠慮ください。
★実習は2日間にわたり、一連の作業を行います。部分的な受講は認められません。

カリキュラムと日程

 フォトリソグラフィー入門   早稲田大学 ナノテクノロジー研究所 准教授 水野 潤、由比藤 勇、関口 哲志 ほか
2月12日 (水) 10:00~12:00

オリエンテーション  関口 哲志

フォトリソグラフィーの原理  水野 潤

電子線描画装置の原理と使い方  由比籐 勇

13:30~17:00

実習① 電子線描画設計とサンプル作製準備

微細な形状のパターンを設計し、電子線描画装置を使って描きます。写真の「撮影」に似たプロセスです。形状や複雑さにより、どのような順序、方法で描画すると効率的に作製できるかなども検討します。

2月13日 (木)

10:00~17:00

実習② 電子線描画サンプルの現像、観察・フォトリソグラフィー実習

実習③ データのまとめ、補充実験

前日に作製した描画パターンや形状などを観察した上で、フォトリソグラフィーを使った「現像」プロセスに移ります。また、実験結果のデータをまとめ、考察の後、必要に応じて補充実験を行います。

2月14日 (金) 10:00~12:00
ディスカッション

最後に受講者、講師全員でディスカッションを行います。パターンの不具合などを確認し、問題点を探り、今回の実習の内容をふりかえります。

★講義中の録音・描画・写真撮影はお断りいたします。

お申し込み

大変ご好評につき、お申し込み受け付けは終了いたしました。
ありがとうございました。
● お申し込み上のご注意 ● ★必ずお読み下さい
①本コースのお申し込みにあたっては、裏面「申込書」を下記申込先までお送り下さい。
②見学および実習時には、クリーンウエアを着用の上、照明な どを含めてやや特殊な環境下での作業等が続きます。また、数種類のめっき薬および実験機器等を使用いたします。実験室に入室中や薬品類や器具の取り扱いの際は、指導者の指示に必ず従って下さい。
③万一、事故やけが等の発生した場合には、主催者側で応急の処置をいたします。ただし、保険等の扱いについては、所属元の規程に従い、各自でご負担をお願いいたします。
④本コースのお申し込みにあたっては、裏面「申込書」を下記申込先までお送り下さい。所属元の業務としてご参加くださいますようお願いいたします。

企画

早稲田大学

運営

(公財)神奈川科学技術アカデミー

 

問い合わせ先

科学技術理解増進グループ
〒213-0012 川崎市高津区坂戸3-2-1 KSP東棟1F
TEL : 044-819-2032/FAX : 044-819-2097
E-MAIL : se@newkast.or.jp

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