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研究内容・実施体制

 研究内容

研究代表者らは、神奈川科学技術アカデミー(KAST)の研究プロジェクトにおいて、PLD法※1により単結晶基板上に合成したニオブ添加二酸化チタン(TNO)薄膜が、ITOに匹敵する高い導電性と高い透過性を有することを発見しました。これを技術シーズとし、民間企業と連携の上、実用的な手法を用いて、ガラスなどの安価な基板上にITOに替わりうる性能を有するTNO透明電極を作製しています。さらに、TNOの比較的高い屈折率を生かした新たな応用として、青色発光ダイオード用電極への利用を図っています。一方で、TNOの基礎物性を理解するため、ミクロな物性評価ならびに理論計算に実績豊富な大学のグループと共同研究を進めています。

※1 PLD法…パルスレーザーデポジション法。成膜速度が速く、かつ、レーザーフルエンス等成膜条件の調整により膜の表面状態を制御したり、微粒子膜の製作が可能で、しかも酸素雰囲気中での成膜が可能であるため、酸化物膜の作製に使用される。(特許庁「資料室」より)

 実施体制

旭硝子株式会社、豊田合成株式会社、東京大学の3つの機関が、それぞれの得意分野において神奈川科学技術アカデミー(KAST)と連携を図りな がら、本プロジェクトを推進しています。

KASTを中心に4機関の連携図(旭硝子、豊田合成、東京大学)  

スパッタリングによる成膜風景

KASTを中心に4機関の連携図
 
スパッタリングによる成膜

 

公的研究機関・企業・大学の理想的な連携