電界放出型走査電子顕微鏡（FE-SEM/EDS）
概要
高分解能であることに加え、焦点深度が深く、広範囲に焦点の合った立体的な像を得ることができます。主に薄膜の表面・断面、金属材料の破断面観察、微小領域での局所分析などに対応します。
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装置 |
特長 |
| 機器名 |
（株）日立ハイテクノロジーズ S-4800
- 二次電子像分解能 ： 1.0nm（15kV），1.4nm（1kVリターディングモード）
- 試料交換サイズ ： 100mm径（最大）
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| EDAX Genesis2000 |
| 透過電子検出器，EBIC像観察ユニット |
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- 材料の表面形態観察を三十倍から数十万倍の範囲で観察できます。
- 光学顕微鏡に比べて焦点深度が深いので、凹凸のある試料でも観察が可能です。
- 付属のEDSにより元素分析が可能ですので、付着物や変色部分などトラブルシューティングにおいても威力を発揮します。
- 低加速電圧での高倍率観察や走査透過電子顕微鏡（STEM）観察が可能です。
 受託分析料金
開放機器利用料
装置一覧
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立会い観察分析も可能です。
♣ 撮影箇所や分析箇所を指定でき、欲しい情報が的確に得られます。
♣ データを受取るだけでは得られない多くの情報を得る事ができます。
♣ 画像データはその場でお渡しできます。
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応用例
♦薄膜の表面・断面観察
♦破面観察
♦微小領域での局所分析
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エネルギー分散型X線分析装置による分析例
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| 二次電子像 |
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| Sn |
Fe |
Si |
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| Pb |
Ni |
Cu |
| はんだ付けされたIC断面の面分析結果 |
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形態観察・画像観察
高度計測センター
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