財団法人神奈川科学技術アカデミー

 ホーム高度計測センターご好評の分析サービス> µ-XPS・μ-ESCA

µ-XPS・μ-ESCA

走査型X線光電子分光分析装置(µ-XPS・µ-ESCA)

概要

 試料表面の極薄い層(数nm)の元素分析(水素、ヘリウム以外)、半定量分析(検出限界~0.1at%程度)および化学結合状態分析ができます。
金属や半導体、酸化物、セラミックス、有機物などの絶縁物試料等、あらゆる固体が対象です。

 

受託分析料金

装置一覧

装置

Quantera SXM

アルバック・ファイ社 Quantera SXM

  • ビーム径9µm~200µmでの微小部分析
  • 化学結合状態別のラインおよびマッピング分析


  • -応用例-
  • 薄膜、多層膜分析
  • 物質表面の変色、汚染、付着分析
  • 電子材料の不具合分析
  • 目視、顕微鏡では確認できない汚染物分析
  • 表面処理、ぬれ性など表面改質分析
  • 腐食、接合などのトラブル解析

用途

  • ♣ 目視、顕微鏡では確認できない表面の汚染、吸着、付着物分析
  • ♣ 表面改質評価
  • ♣ 金属薄膜の組成、化学結合状態の評価
  • ♣ 物質表面のしみ、変色分析
  • ♣ 電子材料の故障解析

原理

光電子の発生原理 試料表面にX線を照射するとX線に励起された原子から電子(光電子)が放出される。
照射するX線のエネルギーが一定なので、光電子の運動エネルギーを測定すれば電子の結合エネルギーが求められる。
X線光電子分光分析の分析領域 内殻電子の結合エネルギーは原子によって固有の値を有するので、結合エネルギーを測定することによって元素の同定を行うことができる。
また、原子の化学結合状態が異なると結合エネルギーの値は微妙に変化する。変化した値を測定することによって、元素の化学結合状態分析を行うことができる。

測定事例

大気中保存シリコンウェハーのXPS分析スペクトル
金接点上のしみ

解析例

高分子材料の表面処理の解析

Auめっき上の極薄いシミの分析

高度計測センター
TEL:044-819-2105  FAX:044-819-2108
お問い合わせフォーム

 前のページへ戻る    ページのトップへ戻る