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概要 蛍光X線(XRF)分析装置は、試料にX線を照射し発生する蛍光X線を測定することで元素の確認(定性)や、検出された各元素のピーク強度を理論計算(FP法)することで大まかな含有量(半定量)を得ることができる装置です。
金属,半導体,有機物及びセラミックスとあらゆる固体に対応でき、元素情報を得るための入り口的な装置として、中小企業から大企業の多種多様なニーズに対応できる装置です。
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原理
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仕様
| SIIナノテクノロジー |
| SEA6000VX HSFinder |
| X線源 |
空冷式小型X線管球(Wターゲット)、コリメータ方式 |
| X線照射向き |
上面照射 |
| 分析領域 |
200μm,500μm,1.2mm,3mm, |
| 分析元素 |
Mg~U (Heパージ使用時 Na~U) |
| 試料サイズ |
最大450×580×150 mm |
| 面分析 |
250×200mm |
| ビームサイズ |
200μm,500μm,1.2mm,3mm |
| 最大マッピング面積 |
250×200mm |
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本装置の特徴
- ♦ 大きい試料も非破壊で測定 ⇒ 最大試料サイズ:450×580×150 mm
- ♦ 微小からバルクまでの分析領域 ⇒ ビームサイズ:200μm,500μm,1.2mm,3mm
- ♦ 広範囲の高速マッピング ⇒ 最大マッピング面積:250×200mm
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測定事例 :メモリー基板のマッピング分析
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| 試料像
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マッピング重ね合せ:赤(Cu),緑(Ag),青(Pb) |
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