受託分析料金
開放機器利用料
装置一覧
FEI社 FIB200
極低加速エネルギー(100eV~2keV)のアルゴンスパッタリングによって、イオンミリング装置やFIBで作成したTEMやSEM試料の最表面ダメージ層の除去
リンダ社Model Ⅳ5
レーザーマーカは試料表面を光学顕微鏡で拡大観察しながら、細く絞ったレーザー光を照射し、任意の場所へ簡単にマーキングできる装置です。集束イオンビーム装置や走査電子顕微鏡の電子像では確認が難しかった変色部位などの特定に、そのマーキング機能は大きな威力を発揮します。
532nmと355nmの2種類のレーザーを切り替えて使用できるため、金属材料、絶縁材料、TFT、およびFPDなどの多種類のサンプルに対応可能です。また、対物レンズの倍率を変えることで、異なったサイズ、大体1~150μm角のマーキングが行なえます。
プリント基板へのマーキング
高度計測センター TEL:044-819-2105 FAX:044-819-2108