装置・機器・試験機名
<略式名称>
メーカー
型式 |
仕様等 |
デジタルマイクロスコープ
キーエンス社
VHX-600 |
レンズ ： 0〜40倍、20〜200倍
解像度 ： 最高5400万画素（1800万画素×3CCDモード）
計測機能 ： 距離、角度、半径、面積など
利用可能メディア ： CD-R / CD-RW、USBメモリー |
金属顕微鏡・光学顕微鏡
オリンパス光学工業株式会社
BX-51 |
撮影モード ： 反射,透過,偏光,明視野,暗視野,微分干渉
対物レンズ ： 2.5× 5× 10× 20× 50× 100×
最大標本高さ ： 60mm
試料ステージの大きさ ： 100(X)×100(Y)mm,
4インチ/3インチ ウエハホルダ付属
CCDカメラ ： 1250万画素 |
マクロ撮影イメージングシステム
カールツァイスマイクロイメージング
SteREO Discovery.V20 |
レンズ ： ×2.3〜×45、×7.5〜×150、×11.3〜×225
解像度 ： 4124×3120（画素）
照明装置 ： フレキシブル、リング、同軸
画像のスケール表示： 任意の倍率で自動認識 |
万能顕微鏡
ライカ MRXA |
画像解析処理システム付属機器
光源 ： ハロゲン光,水銀光
撮影モード ： 反射,反射偏光,微分干渉,透過,透過偏光,
透過微分干渉,暗視野,蛍光
観察倍率 ： 50〜1500倍
試料ステージ移動距離 ： 80ｍｍ×50ｍｍ
最大試料高さ ： 55mm |
走査型プローブ顕微鏡システム
<SPM>
デジタル・インスツルメント社
NanoScopeIV |
TopviewSTM、AFM、MFM、LFM etc
大型サンプル観測ステージ
●付属装置 ： 薄膜硬度測定装I置
HYSITRON社 TRIBOSCOPE
荷重分解能 ： 100nN以下、変位 感度：0.2nm以下 |
超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡<FE-SEM>
日立ハイテクノロジーズ S-4800
FE-SEM付属 EDS分析装置
EDAX Genesis2000 |
二次電子像分解能 ： 1.0nm（15kV），1.4nm（1kVリターディングモード）
検出器 ： 二次電子検出器（Upper/Lower）
試料交換サイズ ： 100mm径（最大）
その他 ： STEM観察、EBIC観察
分析モード ： 点分析、線分析、面分析
分析対象元素 ： B〜U |
集束イオンビーム・走査電子顕微鏡・アルゴンミリング複合装置
<FIB・SEM・Arトリプルビーム>
エスアイアイ・ナノテクノロジー（株）
XVision200TB
FIB・SEM・Arトリプルビーム付属
エネルギー分散型検出器（EDS）SII Nano Technology USA Inc,
e-Xpress/Vortex-EM
|
分解能 ： FIB/4nm(30kV), SEM/3nm(5kV)
プローブ電流 ： FIB/0.15pA〜45nA, SEM/4pA〜20nA,Arミリング/10nA(Max)
加速電圧 ： FIBおよびSEM/1〜30kV, Ar/0.5〜1.0kV
試料寸法 ： 最大200mm：φ (JEIDA規格ウェーハ対応可)
その他 ： カーボンまたはタングステンのデポジション
マイクロプロービングシステム
EDS搭載（点分析、線分析、面分析) |
集束イオンビーム装置
<FIB>
FEI社 FIB200 |
試料寸法 ： 2インチ（加工可能領域）
ビームスポットサイズ ： 8nm〜500nm
画像分解能 ： 7nm以下（30kV）
オプション ： 帯電補正用中和電子銃
プラチナデポジション、絶縁物デポジションユニット
マイクロプロービングシステム |
超高分解能電界放出型分析透過電子顕微鏡<FE-TEM>
トプコンテクノハウス
EM-002BF
TEM付属 EDS分析装置
サーモフィッシャーサイエンティフィック
NORAN System SIX（検出器2台装備） |
加速電圧 ： 20〜200kV
粒子分解能 ： 0.18nm
格子分解能 ： 0.10nm
CCDカメラ TVIPS社 FastScan-F114(EM-MENU 4.0)
STEM トプコンASD-2B2
最小分析領域 ： 0.3nm径
X線検出立体角 ： 0.33str（2台使用時は約2倍）
分析モード ： 点分析、線分析、面分析
分析元素 ： B〜U |
装置・機器・試験機名
<略式名称>
メーカー
型式 |
仕様等 |
マイクロフォーカスX線検査装置
メディエックステック MXT-160UU |
最大試料寸法 ： 300mm×250mm
管電圧 ： 10〜160kV
焦点寸法 ： 1µm以下
拡大率 ： ×1〜1000
ステージ可動範囲 ： X方向 300, Y方向 250, Z方向 250mm,
回転 360°, 傾斜 0〜60° |
Ｘ線回折装置<XRD>
理学電機工業 RINT1500 |
X線源 ： 最大出力50kV, 200ｍA
ターゲット回転対陰極
5試料オートチェンジ試料ステージ
粉末法・薄膜法アタッチメント |
超音波顕微鏡
オリンパス光学工業 UH3 |
音響レンズ周波数
探傷・深部観察用 ： 30, 50, 100MHz
表面波測定・内部観察用 ： 200, 400, 600, 1000MHz
最大測定視野 ： 40mm×32mm
試料ステージ温度制御 |
