財団法人神奈川科学技術アカデミー

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分析装置一覧

形態観察・画像観察

装置・機器・試験機名/<略式名称>/メーカー/型式 仕様等
デジタルマイクロスコープ
キーエンス社
VHX-600
レンズ : 0~40倍、20~200倍、
100~1000倍(通常観察に加えて偏光,微分干渉,明視野,暗視野での観察が可能)
解像度 : 最高5400万画素(1800万画素×3CCDモード)
計測機能 : 距離、角度、半径、面積など
利用可能メディア : CD-R / CD-RW、USBメモリー
金属顕微鏡・光学顕微鏡
オリンパス光学工業株式会社 
BX-51
撮影モード : 反射,透過,偏光,明視野,暗視野,微分干渉
対物レンズ : 2.5× 5× 10× 20× 50× 100×
最大標本高さ : 60mm
試料ステージの大きさ : 100(X)×100(Y)mm,
4インチ/3インチ ウエハホルダ付属
CCDカメラ : 1250万画素
マクロ撮影イメージングシステム
カールツァイスマイクロイメージング
SteREO Discovery.V20
レンズ : ×2.3~×45、×7.5~×150、×11.3~×225
解像度 : 4124×3120(画素)
照明装置 : フレキシブル、リング、同軸
画像のスケール表示: 任意の倍率で自動認識
万能顕微鏡
ライカ MRXA
画像解析処理システム付属機器
光源 : ハロゲン光,水銀光
撮影モード : 反射,反射偏光,微分干渉,透過,透過偏光,
透過微分干渉,暗視野,蛍光
観察倍率 : 50~1500倍
試料ステージ移動距離 : 80mm×50mm
最大試料高さ : 55mm
超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡<FE-SEM>
日立ハイテクノロジーズ S-4800

FE-SEM付属 EDS分析装置
EDAX Genesis2000

二次電子像分解能 : 1.0nm(15kV),1.4nm(1kVリターディングモード)
検出器 : 二次電子検出器(Upper/Lower)
試料交換サイズ : 100mm径(最大)

その他 : STEM観察、EBIC観察

分析モード : 点分析、線分析、面分析
分析対象元素 : B~U

高分解能分析走査電子顕微鏡<FE-SEM>
日本電子(株) JSM-7800F Prime

FE-SEM付属 EDS分析装置
サーモフィッシャーサイエンティフィック
NORAN System 7

分解能:0.7nm(15kV)、0.7nm(1kV)、3.0nm(5kV、WD10mm、5nA)
検出器:上方検出器(UED)、上方二次電子検出器(USD)、下方検出器(LED)、反射電子検出器(BED)
試料交換サイズ:100mm径(最大)

その他:STEM観察、低真空観察、GB観察

分析モード:点分析、線分析、面分析
分析対象元素: B~U

集束イオンビーム・走査電子顕微鏡・アルゴンミリング複合装置
<FIB・SEM・Arトリプルビーム>
エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)
XVision200TB

FIB・SEM・Arトリプルビーム付属
エネルギー分散型検出器(EDS)
サーモフィッシャーサイエンティフィック
NORAN System7
分解能 : FIB/4nm(30kV), SEM/3nm(5kV)
プローブ電流 : FIB/0.15pA~45nA, SEM/4pA~20nA,Arミリング/10nA(Max)
加速電圧 : FIBおよびSEM/1~30kV, Ar/0.5~1.0kV
試料寸法 : 最大200mm:φ (JEIDA規格ウェーハ対応可)

その他 : カーボンまたはタングステンのデポジション
マイクロプロービングシステム
EDS搭載
分析モード:点分析、線分析、面分析
分析元素:B~U
超高分解能電界放出型分析透過電子顕微鏡<FE-TEM>
トプコンテクノハウス
EM-002BF


TEM付属 EDS分析装置
サーモフィッシャーサイエンティフィック
NORAN System SIX(検出器2台装備)

加速電圧 : 20~200kV
粒子分解能 : 0.18nm
格子分解能 : 0.10nm
CCDカメラ Gatan社 UltraScan 1000XP(Model 994.20B)
STEM トプコンASD-2B2

最小分析領域 : 0.3nm径
X線検出立体角 : 0.33str(2台使用時は約2倍)
分析モード : 点分析、線分析、面分析
分析元素 : B~U

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表面分析

装置・機器・試験機名/<略式名称>/メーカー/型式 仕様等
走査型マイクロX線光電子分光分析装置
<µ-XPS・µ-ESCA>

アルバックファイ社 Quantera SXM
Al KaモノクロX線
分析可能最小ビーム径:9µm
Arイオン銃、中和銃、角度分解分析、加熱冷却機能搭載
試料サイズ:75×75×20mm(最大Φ100mmの試料が取り付け可能)
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成分分析

装置・機器・試験機名/<略式名称>/メーカー/型式 仕様等
フーリエ変換赤外分光光度計
<FT-IR>

日本分光(株) FT/IR-6300FV
波数範囲 : 7,800~150cm-1
波数分解能(最高) : 0.07cm-1
オプションユニット : 顕微赤外、顕微ATR、
顕微RAS、拡散反射、一回反射ATR
微小部蛍光X線分析装置
<XRF>

エスアイアイ・ナノテクノロジー(株) SEA6000VX HSFinder
X線源:空冷式小型X線管球(Wターゲット)
分析領域:200μm,500μm,1.2mm,3mm
  上面照射、コリメータ方式
分析元素:Mg~U (Heパージ使用時 Na~U)
試料サイズ:450×580×150 mm
面分析:250×200mm
最大試料サイズ:450×580×150 mm
ビームサイズ:200μm,500μm,1.2mm,3mm
最大マッピング面積:250×200mm
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光触媒JIS試験

装置・機器・試験機名/<略式名称>/メーカー/型式 仕様等
窒素酸化物除去試験装置
(システム一式)

湿度発生装置/神栄電気 SRG-1R-3
ガスブレンダー/コフロック GB-2C
NOx計/堀場製作所 APNA-370
紫外線照射反応システム/特注品



25℃、湿度50%の空気を3L/min供給
一酸化窒素標準ガスを1ppmに希釈して供給
スパン0~1ppm、分解能1ppb
触媒表面で紫外線照度10W/m2
イオンクロマトグラフ  
東ソー IC-2001
硝酸イオン、亜硝酸イオン 測定下限<1ppb
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構造解析と非破壊検査

装置・機器・試験機名/<略式名称>/メーカー/型式 仕様等
マイクロフォーカスX線検査装置
メディエックステック MXT-160UU
最大試料寸法 : 300mm×250mm
管電圧 : 10~160kV
焦点寸法 : 1µm以下
拡大率 : ×1~1000
ステージ可動範囲 : X方向 300, Y方向 250, Z方向 250mm,
回転 360°, 傾斜 0~60°
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精密加工装置・工作機・測定装置名

 開放機器利用料

加工機名 メーカー・型式
レーザーマーカ レーザー波長 : 532nmと355nmの2種類(切替式)
照射ビーム寸法: 1μm角~150μm角
マーキング対象: 金属材料、絶縁材料、TFT、FPDなど
精密イオン研磨装置
(ジェントルミル)
リンダ社/Model IV5
ミクロトーム RMC社/MT-X
ウルトラミクロトーム
クライオシステム付属
オスミウムコーター 真空デバイス社/HPC-1SW
旋盤 ワシノ/ LR55A
フライス盤 独フリードリッヒデッケル/FP-1
切断機 ニシムラ/NM-60
ボール盤 並木機械/NBD-340LR
表面粗さ形状測定機 東京精密/サーフコム550A
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電気計測

 開放機器利用料

装置名 メーカー・型式
オシロスコープ レクロイ WaveRunner62Xi
カーブ・トレーサ ソニーテクトロニクス 571型
ダブルブリッジ 横河電機 2752型
ホイーストンブリッジ 横河電機 2768型
エレクトロニック検流計 横河電機 2709型
ACミリオームハイテスター
日置電機 3560
マルチフリケンシLCRメータ YHP 4284A、4285A
超絶縁計 日置電機 SM-8220
交流耐電圧試験器 日置電機 3158
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材料強度試験

万能材料試験機
精密万能試験機
万能材料試験機
シャルピー衝撃試験機
耐圧試験機
硬さ試験機 ブリネル
硬さ試験機 ロックウェル
硬さ試験機 ビッカーズ
硬さ試験機 微小硬度計
硬さ試験機 ヌープ
硬さ試験機 スーパフィッシャル

温湿度環境試験

恒温槽
恒温恒湿槽
恒温恒湿槽
恒温恒湿槽
プレッシャークッカー
冷熱衝撃試験機
冷熱衝撃試験機
超低温恒温恒湿槽(-70~150℃)

電磁環境試験

電波暗室
EMI測定システム
インピーダンス安定化回路網(ISN)
電源高調波電流測定器
簡易放射イミュニティ試験器
パルスイミュニティ試験器
静電気試験器
伝導イミュニティ試験器
ノイズシミュレータ
電磁波妨害源探査装置
ノイズ発生器
 

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