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化粧品のトレンドから生まれた「乳化分散技術」と「界面活性剤創製技術」

【終了しました。多数、ご参加いただきありがとうございました。】

開講期間

平成23年8月3日(水) 10:00~16:50

申込締切

先着順にて承ります

定員

25名

受講料

15,000円

>> カリキュラム内容

お申込み


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ありがとうございました。
 

開催にあたって

乳化分散技術は、皮膚清浄、スキンケア、メイクアップなどの化粧品全般にわたって用いられる基盤技術である。特に、近年の特徴ある化粧品の性能の多くは、ユニークな乳化・分散技術によって引き出されていると言っても過言ではない。また、消費者の要望を満たすためあるいは化粧品トレンドから発想を得て開発された乳化分散技術もある。
本セミナーでは、乳化・分散の基礎、化粧品のトレンドと技術動向及び最新の乳化分散技術と界面活性剤の特徴ある化粧品への応用に関して解説を行う。

カリキュラム構成

化粧品のトレンドから生まれた 「乳化分散技術」と「界面活性剤創製技術」
 
時間 演題/講師
10:00~10:10

タイトル 乳化分散技術と界面活性剤
         技術教育出版 取締役編集長 真勢正英氏

10:10~11:50

タイトル 「化粧品のトレンドから生まれた乳化分散技術 Ⅰ」
         ㈱コスモステクニカルセンター 主幹研究員 鈴木敏幸氏

  1. 化粧品の訴求/技術動向
  2. ・乳化分散系の状態とその評価解析技術
    ・エマルション、マイクロエマルション、ナノ分散系の調製と安定化
    ・両親媒性分子の会合体
  3. 乳化分散系に不可欠な基礎知識
  4. 新しい乳化・分散技術
  5. ・乳化機構の解析法:相図の読み方、作り方と乳化解析の実際
    ・液晶、D相、マイクロエマルションを用いた微細エマルション調製
12:50~13:50

タイトル 「化粧品のトレンドから生まれた乳化分散技術 Ⅱ」

     4. ユニークな化粧品の設計/商品化における乳化・分散技術
      4-1 皮膚を守るための乳化・分散技術
       ・自己組織性脂質(セラミドおよびセラミド類縁体)を用いた
        マルチラメラ型エマルション
       ・αゲルを用いた高保湿ジェル乳液
       ・UV防御化粧品における使い心地と性能の両立:
        防御能、持続性と透明性
      4-2 メイクアップ化粧品における皮膚親和性のための技術
       ・ベースメイクにおける粉体技術:形状制御、複合、表面処理
       ・高持続性と使用感の両立のための技術
       ・うるおい、ツヤ持続口紅における分散技術
      4-3 メイクトレンドから生まれたクレンジング料
       ・自己乳化型液晶ジェルとその洗浄機構
       ・水に強いオイルクレンジング:
        両連続(Bicontinuous)マイクロエマルション
14:00~15:00

タイトル 「ピッカリングエマルション」 ~固体粒子を利用した
       サーファクタントフリーエマルションの調製技術講義~

         山形大学 大学院理工学研究科 准教授 野々村美宗氏

  • 安定なエマルションを調製するためには、界面活性剤を使うことが常識であった。最近、固体粒子を使ってエマルションを安定化する技術が注目を集めている。
    本講演では、エマルションの安定化のメカニズムについて解説し、化粧品やDDSへの応用を試みた事例を紹介する。
15:10~15:55

タイトル 「高分子と界面活性剤による新規マイクロエマルション創製」
         ㈱資生堂 新成長領域研究開発センター環境研究グループ
         グループリーダー 宮原令二氏

  • 新規エマルション化粧品の調製
    ~高分子シリコーンを含む新規なマイクロエマルションの調製~
16:05~16:50

タイトル 「スキンケア化粧品の機能を高めるエマルション膜設計」
         ポーラ化成工業㈱ 研究企画部知財戦略室 酒井 裕二氏

  •  エマルションを皮膚に塗布した際にできるエマルション膜は、スキンケア化粧品の機能、効果を決定づける重要な因子である。 可視化しにくい、評価しにくいとの理由で、あまり研究が進まなかったが、昨今の測定機器の発展に伴い、これらが可能となった。 
    そこで本講演では、このエマルション膜と化粧品機能について言及する。

※やむを得ない事情により、日程・内容の変更や中止をする場合があります。講義中の録音・録画・写真撮影はお断りいたします。

主催


財団法人 神奈川科学技術アカデミー

企画・共催


技術教育出版
※同テーマの詳細な内容の出版物を発行している真勢正英代表取締役(技術教育出版)の全面的な協力のもと開催します。

開催場所

かながわサイエンスパーク(KSP)内  709会議室
(川崎市高津区坂戸3-2-1)
◆ JR南武線「武蔵溝ノ口」・東急田園都市線「溝の口」下車
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お問い合わせ

教育情報センター 教育情報グループ
TEL : 044-819-2033 FAX : 044-819-2097
教育研修グループ E-mail : ed@newkast.or.jp
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